Shimadzu衍射光柵 光柵槽是通過(guò)全息曝光方法形成的，其中應(yīng)用了雙激光束干涉技術(shù)。這種全息方法降低了機(jī)械刻劃光柵中常見的刻槽周期誤差，保證了低雜散光光柵的制作。

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更新日期：2026-02-09

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Edmund新品光柵 與刻線式光柵相比，Richardson Gratings™ 高精度反射式全息衍射光柵的光散射更低，使其成為對(duì)拉曼光譜儀等雜散光敏感的應(yīng)用的理想選擇。通過(guò)暴露于強(qiáng)激光干涉圖樣，光柵被記錄在光刻膠中，然后用化學(xué)方法顯影以顯示具有正弦橫截面的條紋圖樣。可提供從 UV 到 NIR 光譜區(qū)域使用的光柵。

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更新日期：2026-02-08

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相位掩模版（光柵）用于制造光纖布拉格光柵，它是控制高性能光學(xué)網(wǎng)絡(luò)中波長(zhǎng)選擇性和色散補(bǔ)償?shù)年P(guān)鍵組件。相位掩膜板具有廣泛的應(yīng)用，但是比較常見的是，PMT相位掩膜板（光柵）用于記錄其他光柵，例如集成光學(xué)設(shè)備中的平面波導(dǎo)光柵和光纖布拉格光柵（FBG）。FBG是位于光纖芯中的光頻率濾波器。

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更新日期：2026-02-08

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平面全息光柵通常用于對(duì)雜散光敏感的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對(duì)其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對(duì)基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過(guò)程用于復(fù)制。

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更新日期：2026-02-08

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透射光柵2光路設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單，對(duì)于使用固定式光柵的應(yīng)用，優(yōu)勢(shì)明顯，比如光譜儀。入射光束在光柵背面以固定角度發(fā)生色散。對(duì)一些類型的光柵準(zhǔn)直誤差不敏感。為了獲得高衍射效率，刻線密度不高。衍射角會(huì)隨刻線密度的增加而增大，基底材料的折射率限制了長(zhǎng)波的透射率，從而導(dǎo)致性能降低。光柵的色散特性使其適用于使用小型探測(cè)器陣列的緊湊系統(tǒng)。這種光柵對(duì)于偏振也不敏感。

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更新日期：2026-02-08

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ZEISS 凹面衍射光柵將色散和成像性質(zhì)合并到單一光學(xué)組件上，以集成到光譜系統(tǒng)中。這些凹面光柵采用全息方式生產(chǎn)，同時(shí)優(yōu)化了焦平面，并大限度減少了光柵波長(zhǎng)范圍內(nèi)的像差。本產(chǎn)品的設(shè)計(jì)目的是提高光柵效率并大限度減少雜散光，從而提高光譜分辨率和分光儀的信噪比。我們提供具有羅蘭圓或多色器安裝配置的衍射光柵。

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更新日期：2026-02-07

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